פלטפורמת מיכון בדיוק גבוה

חברת מור מערכות ננוטכנולוגיות (Moore Nanotechnology Systems - Nanotech), ספקית עולמית של מערכות מיכון בדיוק גבוה, השיקה פלטפורמת מיכון בדיוק גבוה מהדור הבא מפיתוחה, 250UPL MP. פתרון זה ניתן להגדרה לכל כלי הליטוש והכרסום המתבססים על עיבוד בחוד יהלום (Single Point Diamond Turning - SPDT), סאב-ננומטרי בדיוק גבוה.

יצרני תבניות אופטיות דורשים גימורי שטח פנים באיכות גבוהה כדי לחזק את מהימנות המערכות האופטיות, אשר כעת נפוצות בטלפונים החכמים, AR/VR/MR, וביישומי רכב למיניהם. הדור הנוכחי של מכונות בדיוק גבוה, אשר משמש כיום, הגיע לפוטנציאל המרבי שלו. נדרש עיצוב חדש לגמרי כדי לפרוץ את הדרך אל דרגת הביצוע הבאה. פלטפורמת 250PL MP של חברת ננוטק עומדת בדרישות ואף מעבר להן.

מרק בומגרדן, נשיא ומנכ"ל Nanotech, הסביר: "אנחנו עובדים עם ספקי מודולת המצלמה והרכיבים האופטיים המובילים בעולם כדי להגיע לתובנות לטווח הבינוני והארוך לגבי דרישות המוצר והטכנולוגיה שלהם, ולאחר מכן משתמשים בהן כתשומה למתווה הפיתוח שלנו, לשנים רבות. התברר כי התעשייה זקוקה ללא דיחוי לפלטפורמת מכונה-מכשיר אשר בכוחה להרחיב את גבולות יכולת המיכון בדיוק גבוה. לשם כך הוציא הצוות הטכני של ננוטק את פלטפורמת 250UPL MP."

פול ורמט, סמנכ"ל הנדסה ופיתוח מוצרים חדשים ב-Nanotech הוסיף ואמר, "הצלחה בשוק זה נובעת ממתן פתרון המתבסס באופן מוצק על ידע תהליכי. כאשר אנחנו יוצאים אל השוק עם מכונה חדשה כמו 250UPL MP, אנחנו מציעים הרבה יותר ממכונה. אנחנו מציעים פתרון לאתגרים אמיתיים ומורכבים, שעמם מתמודדת תעשיית ייצור המכשירים האופטיים מדי יום."

סקוט גרהרט, סמנכ"ל המכירות של Nanotech ציין, כי "בששת החודשים שחלפו שילחנו את פלטפורמת 250UPL MP  לחברות נבחרות מובילות בתעשייה ברחבי העולם, והמשוב מצוין. כיום אין מכונה אחרת זמינה שיכולה להגיע לגימור שטח פנים ברמה גבוהה ולדיוק התבנית הנדרש על ידי העיצובים האופטיים שאותן חברות משיקות ב-36 החודשים הקרובים."

פלטפורמת 250UPL MP הושקה רשמית בפוטוניקס ווסט ב-25 בינואר 2022.

Nanotech; יוטיוב